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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作业厂座落在豫东省份,包括制造8英尺半导体技术晶圆,每日生活污水直接排缩量上涨约800吨。考虑到制造阶段中便用非常多的氢氧化钠对其进行晶圆蚀刻,导至生活污泥里氟化物浓度值高达hg200-300mg/L,远超國家直接排卸标淮(10mg/L接下来)。 废水处理组成及特征 生活污水其主要出自六个节点: 晶圆蚀刻步骤 :含高浓硫酸浓度氟化物(HF)、硝酸银及几瓶高价属 无机化学机磨光(CMP)废渣 :含納米级硅粉末、有机物络合剂 装置洗涤焦化废水 :含异丙醇、化学需氧量等有机化学物 治疗工艺设计程序流程 进行"化学上的结晶+混疑结晶+长度过滤装置"三级分销净化处理模式: 一个操作 :加药氯化钙和氢空气氧化钙,成型氟化钙结晶,氟化物我们要除率达85% 三级整理 :获取PAC(缔合氯化铝)和PAM(PP酰胺),的还原固体态的废弃物 四级外理 :采用多有机溶剂脱水器和活性氧炭过滤,有水出氟化物质量浓度固定在8mg/L左右 主要设施收录:pH自己可以调节整体、斜管滤渣池、板框压滤机厂家(生活污水过滤)。 最终能够体验 好项目加载3年监测站统计资料现示: 氟化物月均渗透压:7.2mg/L(超过一个国家规范标准) COD删去率:92% 活性污泥含水量率:≤65% 年收购 氟化钙副成品约150吨,实现了资源性化灵活运用

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